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二硅化铪 Hafnium silicide(HfSi2)
产品名称:二硅化铪(HfSi2) 规格:0.8-10um(D50)   形貌:不规则 颜色:黑灰色  特点:纯度高、粒度小、分布均匀、比表面积大和表面活性高 用途:金属陶瓷、高温抗氧化涂层、高温结构材料及航空、航天等领域
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产品详情
二硅化铪 Hafnium silicide(HfSi2)

产品名称:二硅化铪(HfSi2

规格:0.8-10um(D50)  

形貌:不规则

颜色:黑灰色 

特点:纯度高、粒度小、分布均匀、比表面积大和表面活性高

用途:金属陶瓷、高温抗氧化涂层、高温结构材料及航空、航天等领域

中文名 硅化铪

英文名 Hafnium silicide 

化学式: HfSi2

CAS:12401-56-8

EINECS: 235-640-1 

密度: 8,02 g/cm3 

熔点 :1680°C 

分子量 234.66 

应用领域:

1. 核工业材料

应用:核反应堆控制棒、中子吸收材料、核废料容器涂层。

依据:铪的中子吸收截面大(约105靶恩),是核反应堆控制棒的理想材料,硅化铪可提升高温稳定性,延长使用寿命。 耐辐射和抗腐蚀性能优异,适合2. 高温结构材料与涂层

应用:航空航天发动机叶片、超音速飞行器热防护层、高温炉内衬。

依据: 硅化铪的熔点高达约2500°C,优于硅化锆,高温抗氧化性更强(尤其在富氧或极端热震环境中)。 作为涂层(如通过CVD/PVD技术),可保护镍基超合金部件免受高温氧化和腐蚀。

3. 半导体与微电子器件

应用:高介电常数栅极材料(替代SiO₂)、集成电路扩散阻挡层。

依据:HfSi₂与硅基底相容性好,可降低界面缺陷,在先进制程中作为高介电常数(high-κ)材料,提升晶体管性能。在铜互连工艺中,作为扩散阻挡层(类似TaN),防止铜原子迁移至硅基底。

4. 耐磨与耐腐蚀涂层

应用:精密刀具涂层、化工设备防腐层、海洋环境抗侵蚀涂层。

依据:

 高硬度(约15-20 GPa)和化学惰性,可抵抗酸、碱及盐雾腐蚀。

 通过热喷涂或气相沉积技术,延长工具和设备的服役寿命。

5. 热电材料

应用:高温废热发电系统、深空探测器同位素电池。

依据:

硅化铪(如HfSi₂)在一定温度范围内具有较高的热电优值(ZT),可将热能直接转化为电能。

耐高温特性使其适用于极端环境(如航天器尾气余热回收)。

6. 复合材料增强相

应用:陶瓷基复合材料(CMC)、金属基复合材料(MMC)。

依据:

作为增强相加入碳化硅(SiC)或氧化铝(Al₂O₃)基体中,可提高材料的断裂韧性和高温抗蠕变性能。

 用于航天器热防护系统(TPS)或高超音速飞行器前缘部件。

7. 新兴领域探索

量子材料:研究硅化铪在拓扑绝缘体或超导材料中的潜在特性。

新能源:作为催化剂载体(如电解水制氢)或固态电池界面层。

光电子器件:探索其在紫外光探测器或光伏材料中的应用。

包装储存:本品为充惰气塑料袋包装,密封保存于干燥、阴凉的环境中,不宜暴露空气中,防受潮发生氧化团聚,影响分散性能和使用效果;包装数量可以根据客户要求提供分装。

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